Litografia de 7nm da Intel pode ser melhor que 5nm da TSMC
Por Felipe Vidal • Editado por Jones Oliveira |
A Intel parece estar bem confiante com seu processo de fabricação em 7 nanômetros (nm), chamado de Intel 4. A informação foi obtida pelo site chinês The Elec, que publicou uma análise preliminar da litografia realizada pela empresa de engenharia reversa IC Knowledge e confirmou o processo como superior ao das concorrentes.
O Intel 4 é a litografia que chegará com os vindouros processadores Meteor Lake em outubro. Essa maneira de produzir chips utiliza raios ultravioleta extremos (EUV), uma técnica capaz de aumentar a densidade dos transistores em relação a outros processos.
Segundo o estudo da IC Knowledge, os 7nm da Intel superam a tecnologia de 5nm da TSMC e chegam a apresentar uma performance similar aos 3 nanômetros da Samsung e da TSMC. O foco da companhia de Santa Clara e dessa litografia parece ser aumentar drasticamente o campo da eficiência energética, algo que faz bastante sentido considerando que os Meteor Lake são CPUs exclusivas de notebooks.
Intel 4 terá ganhos de 20% em eficiência energética
Os novos processadores Intel que utilizam a litografia de 7nm são produzidos na fábrica D1 em Ohio, nos Estados Unidos, e é estimado que cerca de 40.000 wafers de silício sejam produzidos por mês. A fábrica 34, localizada na Irlanda, também deve receber esses chips em breve, mas atualmente trabalha apenas com unidades de teste.
Informações divulgadas no passado pela Intel revelam que a Intel 4 teria ganhos de eficiência energética em 20%. Um dos incrementos para essa tecnologia será um recurso chamado de PowerVia, que alimenta os transistores ao enviar energia por baixo do chip.
Os processadores Meteor Lake serão formalmente revelados no evento Intel Innovation, em setembro, com mais informações sobre o processo Intel 4. Além disso, a empresa deve anunciar mais informações sobre outras litografias, como a Intel 20A e 18, baseadas em litografia de 2nm e 1,8nm, respectivamente.
Fonte: TheElec