Kirin 9000s pode ser feito em processo de 14 nm, aponta executivo
Por Vinícius Moschen • Editado por Wallace Moté |
A Huawei chamou a atenção de entusiastas da tecnologia ao apresentar a linha Mate 60 com o processador Kirin 9000s, que tem performance acima do que seria considerado possível para a marca, dados os problemas de embargo dos EUA. Agora, novas informações apontam que o componente pode ter sido produzido em uma litografia de 14 nm, em vez dos 7 nm citados anteriormente.
A declaração foi feita por Minatake Mitchell Kashio, CEO da empresa de pesquisa em componentes eletrônicos Fomalhaut Techno Solutions. De acordo com ele, o processo de fabricação da chinesa SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) conta com algumas “técnicas especiais” voltadas para aumentar o desempenho do Kirin 9000s.
Kashio não detalha o que são especificamente essas técnicas, mas testes de benchmark mostram que o processador tem, de fato, um desempenho semelhante a outras plataformas de 7 nm.
A contagem de nanômetros faz referência ao tamanho e à distância entre os transistores em um chip. Em resumo, valores menores representam que eles estão mais próximos, o que permite um funcionamento com maior eficiência energética e performance.
Para fabricar chips de 7 nm, é preciso utilizar um maquinário específico que usa tecnologia ultravioleta DUV. Anteriormente, órgãos de imprensa de Taiwan já tinham apontado que a SMIC teria copiado o processo de 7 nm da TSMC, que é a maior fabricante de semicondutores do planeta.
Chip de 7 nm reduz atraso tecnológico de dez para quatro anos
O lançamento do Kirin 9000s acontece em um contexto ainda marcado pelas sanções impostas à Huawei e ao governo chinês, por conta de supostas situações de espionagem da empresa. O objetivo era fazer com que a fabricação de chips chineses fosse limitada a 14 nm, representando um atraso técnico próximo a dez anos em relação aos Estados Unidos.
Para efeito de comparação, um chip de 7 nm tem atraso de cerca de quatro anos em relação aos componentes mais recentes de 3 ou 4 nm.
Para ir além dos 7 nm e construir componentes de litografia ainda mais avançada, a SMIC precisaria usar instrumentos de EUV (ultravioleta extremo) feitos exclusivamente na Holanda. Considerando as sanções, este acesso é impossível para as fabricantes chinesas no momento.
A chegada do Kirin 9000s chamou a atenção das autoridades americanas, com a abertura de investigações para atestar a legalidade do componente. Recentemente, a Secretária de Comércio dos EUA Gina Raimondo apontou que o chip “não poderia ser produzido em massa”.
Fonte: via Wccftech